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石墨舟对二次镀膜工艺的影响

[摘要]本文主要研究管式PECVD的二次镀膜工艺优化,通过对石墨舟使用次数与状态的实验对比分析,得出未经镀膜或者镀膜次数较少的石墨舟可以改善二次镀膜不良片的产生的结论;最终通过二次镀膜工艺改进,提升了产线的合格率与产量,保证了产线电池片半成品的质量。

多晶硅片因为制绒工艺及PECVD本身的影响会产生大量发红的片子,比例在1%-5%之间,通常为2.5%左右。如果该部分色差片全部进行去膜后返工,将会影响当班产量,且返工碎片率较高(1.5%左右),也影响了产出。

通过二次镀膜进行补镀[1,2],可以使大部分硅片颜色达到要求,而不需要去膜返工,且已经纳入了常规生产工艺中;但是二次镀膜后部分硅片存在明显的边缘发白现象,其合格率最多在70%左右,且印刷的电池片仍会有轻微的边缘发白,一定程度上影响了电池片的外观和品质。

优化二次镀膜工艺来提高产线的一次合格率,且尽可能地减少对发红色差硅片去膜返工。针对二次镀膜片来说,产生边缘发白的原因主要是由于镀膜过程舟片边缘与中心电场差异性造成的。硅片边缘紧贴舟片电场强度大,使得硅片边缘镀膜较多,中间镀膜较少,导致了边缘色差的产生[3]。通过优化二次镀膜工艺,使得镀膜时硅片表面电场强度差异性弥补膜厚的差异性,进而达到明显改善边缘色差的目的。

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